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半/导/体/制/程/用

超高纯双氧水

超高纯硫酸

超高纯氨水

适用于：14纳米以上集成电路加工工艺

SEMI Grade5 For 14nm and further technology node

PRODUCTION BASE

品名

双氧水

硫酸

广泛应用于半导体前道湿法清洗工艺，包括颗粒、金属杂质和有机物残留的清洗

应用于半导体前道光刻胶剥离和有机物残留的清洗

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